Positionering av masker i litografi

För att litografiprocesser skall uppnå maximal precision krävs hög upplösning och långsiktig stabilitet vid mätning av maskinrörelser. Kapacitiva givare med hög upplösning från Micro-Epsilon möjliggör positionering av masker med nanometerprecision. Givarnas konstruktion samt kablarna är anpassade för användning i ultrahögt vakuum.